光刻机基本原理（光刻机原理 进来看看）

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1、 制作光刻机芯片的过程基本和“冲洗照片”一样。

2、 假设你在拍一个风景，胶片上会有曝光痕迹。第一，要在暗室里冲洗，这样风景才能在胶片上显示出来。

3、 然后在红光下，通过放大镜，将胶片上的景物投射到相纸上，相纸曝光。

4、 通过对相纸进行显影、定影和干燥，得到最终的照片。

5、 除了风景，“照片冲印”还需要胶片、光源、放大镜和相纸。

6、 对于光刻机来说，所谓的“布景”就是设计好的IC，“胶片”就是用来记录IC的应时板(掩膜版)，“相纸”就是硅片，“放大器”就相当于光刻机。

7、 不同的是，冲洗一张照片时，把小胶片放大到相纸上，而缩小光刻机时，把电路图缩小到晶片上。

8、 在光刻机领域，有三个国际品牌：荷兰的ASML、日本的尼康和日本的佳能。

9、 然而，在高端光刻机市场，荷兰ASML是无可争议的世界领导者，将第二名远远甩在后面。尼康和佳能因为技术难度高、投入大，已经放弃了EUV光刻机的研发。

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